机械剥离二氧化硅基底单层二硫化钼

英文名:Mechanical exfoliation MoS2 on sapphire substrate
Cas号:
检测信息查询
货号 规格 货期 库存 价格 会员价 订购
1308128094-1盒 0 ¥7700 请登录
- +
偏远地区如新疆西藏宁夏甘肃等地可能无法运送液体,下单前请联系客服。
别 名
Cas号
M D L
分子式
分子量
产品参数 形态:薄膜

参数

基底:蓝宝石
基底尺寸:10 mmx10 mm
MOS2面积: >10 µm2

机械剥离制备的二硫化钼,相比较锂插层制备的单层类石墨烯材料,该类材料具有缺陷少,优异的光学性质,可以研究层数和荧光效应,此外,由于保持了原有晶格结构,所以该类材料是制备器件的理想材料。
性状
贮存
本网站销售的所有产品仅用于工业应用或者科学研究等非医疗目的,不可用于人类或动物的临床诊断或者治疗,非药用,非食用。
X
QQ