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CVD二氧化硅基底单层二硫化钨
英文名：Single Layer WS2 on SiO2
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| 货号 | 规格 | 货期 | 库存 | 价格 | 会员价 | 订购 |
| 1308128099-1盒 | 0 | ￥11880 | 请登录 |
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| 产品参数 | 形态：薄膜
参数 基底：二氧化硅 基底尺寸：9 mmx9 mm WS2片径大小：20-50 µm 厚度：0.6～0.8 nm 应用 该类材料缺陷少，光学性质优良，层数可控，是研究层数和荧光效应和制备器件的优异材料。 |
| 性状 | |
| 贮存 |
沪公网安备 31012002003054号