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机械剥离二氧化硅基底二硒化钼
英文名：Mechanical exfoliation MoSe2 on SiO2
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| 货号 | 规格 | 货期 | 库存 | 价格 | 会员价 | 订购 |
| 1308128136-1盒 | 0 | ￥7700 | 请登录 |
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| 产品参数 | 形态：薄膜
参数 基底：二氧化硅 基底尺寸：10 mmx10 mm MoSe2 面积：>10 μm2 应用 该类材料具有缺陷少，优异的光学性质，可以研究层数和荧光效应，此外，由于保持了原有晶格结构，所以该类材料是制备器件的理想材料。 |
| 性状 | |
| 贮存 |
沪公网安备 31012002003054号