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CVD二硫化钨薄膜：WS2

英文名：
Cas号：
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别 名
Cas号
M D L
分子式
分子量
产品参数
性状 制造方法：
化学气相沉积法， Chemical Vapor Deposition （CVD）

产品简介：
WS2薄膜分为多种：
1） 单层离散分布的三角状单晶晶粒，三角边长一般是几十至一百微米。
2） 由三角晶粒继续长大连在一起的单层连续薄膜。
3） 多层WS2 连续薄膜。
4） 基底：WS2可选基底较多，其中蓝宝石基底为直接沉积产品。其他基底例如：SiO2/Si,　硅片，PET，PI，ITO，FTO，玻璃，金属基底等是通过在蓝宝石上生长后转移至客户所需基底。

应用领域：
光电器件，微电子器件，生物传感，化学传感等领域。

包装及规格
10*10mm,15*15mm,20*20mm,2英寸圆片，4英寸圆片 或客户指定的定制尺寸。
净化抽真空包装， 1片/盒，5片/盒。10片/盒。

典型客户包括：
MIT、加州理工、斯坦福大学；
牛津大学、曼彻斯特大学；
首尔大学、韩国科学技术院（KAIST）、成均馆大学；
东京工业大学、村田制作所
清华大学、北京大学、中科院半导体所
等世界一流研究机构。
贮存
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